荷兰政府在本年的6月30日发布了芯片制作设备的出口控制办法，新规则约束最新类型的深紫外光刻设备出口到我国，该项出口控制法规将在9月开端收效。此举旨在维护荷兰在芯片制作业的抢先位置，并避免要害技能外流。
近来，荷兰某组织近来的一项判决显现，荷兰光刻机巨子 ASML（阿斯迈） 能够依据美国出口控制规则的要求，以国籍为由回绝求职者。鹿特丹的一个反轻视基金会对 ASML 的招聘做法提出了投诉，以为荷兰法令不允许依据国籍的轻视。但 ASML 辩称，违背美国法规将导致其面对美国制裁的危险，并“或许导致运营堕入阻滞”。ASML 则在回应中表明：“咱们对活泼的裁决效果表明满意。”依据这一裁决，除了伊朗、叙利亚和古巴，还有我国、俄罗斯等约 20 个国家的公民也在 ASML 可回绝的雇员范畴内。
莫非荷兰真的不想卖光刻机给我国了吗？
ASML的摇晃
光刻机决议了半导体加工的最细线宽，是一切半导体制作设备中技能含量最高的设备，也是从底层光学原理到顶层机械自动化、OPA技能的集大成者。从全球商场来看，ASML名列前茅，成为仅有的一线供货商，旗下产品掩盖悉数等级光刻机。
光大证券的研报显现，ASML占有EUV光刻机100%的商场份额。据ASML财报数据，2022年EUV光刻机均价高达1.76亿欧元每台，远高于其他类型的光刻机。不过早在2019年，荷兰政府就约束了的EUV光刻机产品的出口。在7-28nm制程段，ASML现在也仅有TWINSCANNXT:1980Di这一较老的类型产品在出口控制法令之外。
荷兰政府曾在3月份表明进一步约束光刻机的出口。可是在微弱的第一季度收益发表后，阿斯迈表明将向我国出售更多光刻机。
当地时刻4月26日，荷兰光刻机巨子阿斯迈总裁兼首席执行官彼得·温宁克称，我国寻求开发自己的半导体制作设备“入情入理”。跟着我国开展半导体工业，进入我国商场“是肯定必要的”。此前，温宁克曾多次表明不支持美国对我国的芯片约束，并诉苦“在美国的压力下，咱们抛弃的现已够多了”。
要知道，他曾在此前的一次发言中以为我国自主研制光刻机是在损坏全球工业链。这样的言辞或许反映出西方国家对我国光刻机技能迅速开展的忧虑。
我国商场的引诱
美国的一纸禁令将削弱我国大陆半导体厂商的未来扩张，一旦Chip4联盟彻底合力按捺芯片制作设备和资料出口，我国大陆短期内会因这些约束而难以追逐。
SEMI（世界半导体工业协会）数据显现，2022年，全球半导体制作设备出货量到达1076亿美元，我国大陆接连第三年成为全球最大半导体设备商场。阿斯迈2017至2022年在我国大陆的营收年均复合增加率为26%，高于其总营收的年均复合增加率19%。计算数据显现，2023年大陆晶圆代工厂中芯世界、华虹集团等连续康复扩产，别的稀有十条新式半导体制作工厂处于建造期，未来对光刻机的需求将继续增高。
《日本经济新闻》征引媒体报道称，到6月中旬，2023年已有13家半导体公司在以人民币计价的交易所上市，筹集资金422亿元人民币，占同期一切初次揭露募股总额的1/4。
依据国盛证券研究所计算，2021年大陆半导体设备商场规模初次在商场全球排首位，到达296.2亿美元，同比增加58%，占比28.9%。若存储需求复苏，我国大陆设备商场规模有望坚持较高增速。
除了光刻设备，半导体资料方面，依据SEMI数据，2022年全球/我国半导体资料商场规模分别为698/133亿美元，同比增加9%/11%，我国半导体资料商场长时刻增速更高。随同国内晶圆厂商全球市占率不断提高，关于资料自主可控注重度增强，国内厂商有望掌握机会，加快产品导入与放量进展，迎来快速成长时刻。
我国半导体商场的扩展，对跟随美国限令的荷兰来说，或许确实是一种困难的选择。荷兰政府和企业需求在经济利益、世界政治考量和商业协作之间进行权衡。美国制裁方针或许对荷兰企业的供应链、技能转让和商场准入等方面形成负面影响，而我国半导体商场的开展又具有巨大的引诱。
荷兰公司阿斯迈在光刻机范畴的优势确实是荷兰的护身符之一。光刻机是半导体制作过程中不可或缺的要害设备，阿斯迈在该范畴占有重要位置，并享有抢先的技能优势和专利。这使得荷兰在半导体工业中有必定的竞赛优势，有助于坚持其在全球半导体制作设备中的经济竞赛力和话语权。
可是，需求留意的是，半导体工业是一个高度竞赛和不断立异的范畴。尽管阿斯迈在光刻机范畴具有优势，但其他国家和企业也在不断尽力提高自身的技能才能和商场份额。何况，Chip 4联盟也有各自的利益诉求，并非铁板一块。因而，仅凭光刻机范畴的优势或许无法彻底成为荷兰的护身符，荷兰仍需求全面提高整个半导体工业的竞赛力，并活泼寻求多方协作来应对应战。
国产代替还有多远的路要走？
北京大学高级工程师朱瑞表明国内现在在半导体范畴的间隔依然存在，“我以为一个是硬间隔，另一个是软间隔”。硬间隔是指国内外仪器设备自身的目标功用、目标间隔，硬间隔首要考研要害部件功用、装机加工安装精度以及软件。其实国产设备是在逐渐前进的，比方扫描电镜，相同是30KV电压，国产扫描电镜相同能够做到1nm等级的分辨率，低压功用也还行，正在渐渐追逐与国外扫描电镜的硬间隔。
软间隔，不是指软件，而是指设备稳定性、易用性、特征功用、用户体会以及售后服务等。检测的是技能堆集、技能原理了解和原创性立异。“这个是建立在许多客户反应的基础上进行改善的，该方面国内设备和国外的间隔比较大。比方扫描电镜的探测器，一般的传统二次电子背散射探测器的国内外不同不大，可是国外厂商的探测器会有比方集成化的探测系统等改善，这影响的不单单是功用自身，还有用户体会、试验作用和试验功率。”
他指出，假如想把国产值检测设备做好，需求全面的打破，区别哪些是硬间隔，哪些是软间隔。比方场发射电子源、高压电源是需求着力去霸占的。“假如对设备进行0到10分的评分，国内扫描电镜五年前硬实力还达不到5分，现在国产扫描电镜公司在硬实力上根本能够和国外设备并跑，到达8-9分的水平，但国内透射电镜赛道还没有好的整机公司，或许还处于0-1分这个阶段。软实力上，和国外还有不小的间隔，国内设备有稳定性的问题，能到达6-7分就很不错了。”
富士康工业富联投资人周亨硕则表明，关于半导体前道设备，仅以28nm作为一个边界，间隔国外还有十年以上的间隔。“从现在全球制程前进的周期来看，一般四到五年有一个制程上的前进，根本是产品、产能和库存这三个周期的叠加。我国的瓶颈在于产能周期上，晶圆厂国产代替需求很明显，可是国产设备还没有彻底就位。比较抱负的状况是一个完好的团队复刻原厂设备，至少也需求3-4年时刻，更何况许多前道检测范畴设备咱们短时刻做不出来，只能逐渐迭代。国产代替还会喊好久。”
现在，国内现已开端在半导体技能研制上投入更多资金和资源，致力于推进技能立异和开展；并竭力促进工业界、学术界和研究组织的协作，提高技能的转化和使用质量；也在知识产权维护和科研效果转化机制上进行改革，鼓舞企业进行技能研制和立异。不过受限于起步较晚和技能封闭，现在想要获得更大打破还需求时刻。
朱瑞表明，国家发起把研制内容放到企业中去，国外开展快是因为技能转化才能很强，技能从高校出来，很快就能工业工程化。“所以半导体企业、科研院所和研制公司之间的通道需求打通，加快工业开展。像IBM、Intel自身学术就很活泼，又有产品，很成系统，都是堆集和相互协作的效果。”